該工藝包括如下步驟∶

　?。?）氨催化裂解得出所需的原料氣-氫氮混合氣；

　?。?）把氫氮混合的氣純化，使氫氮混合氣的純度達到99.999%～99.999999%；

　?。?）將高純的氫氮原料氣輸送到合成氨塔中合成高純氨；

　　步驟（3）中，壓力條件為4～7MPa，溫度條件為300～400℃；催化劑采用在200～400℃具有良好的活性的催化劑。

　　步驟（3）中采用的空間速率≤10000h；步驟3）中采用的空間速率為4000h-1。

　　步驟（3）中合成高純氨水后，還包括氨分離步驟，分離溫度在一25℃一50℃之間。

　　低純氨之合成因受原料氣里面雜質的影響，一般不能應用低溫活性較高的催化劑，但對高純氨的制備，因原料氣里所含的雜質降低，因此不用去擔心催化劑的受損害問題。由于不用擔心催化劑會受損害，廠家可以選擇低溫活性很高的氨合成催化劑，只要保持正確的應用辦法，那么它們低溫的活性可保持約10年左右。

　　該高純氨使用純度可達99.9999999%（9N）的氫氮混合，先是實現了純度達到99.99999%（7N）以上的高純氨合成。根據試驗結果，高純氨可以在低壓（4～7MPa）和低溫（300～400℃）條件下比較經濟地獲得；同時發現此方法可以克服傳統（低純）氨合成技術上催化劑易受損害的困難。

　　由于高純氨的使用量遠不能跟工業氨相比，高純氨的生產并不需要追究很高的生產效率，關鍵是穩定地保持高純氨水的純度。廠家在保持氨氣高純的前提下，對工藝參數的選擇是∶采用比較小的空間速率、盡可能增進凈氨值，在生產工藝中，在合成壓力5MPa的條件下凈氨值可大于6%。